HMC700LP4(E)是一款SiGe BiCMOS小数N分频频率合成器。 该频率合成器内置极低噪声数字鉴频鉴相器(PFD)和精密控制电荷泵。
其高性能低杂散操作如下：
HMC700LP4（E）的设计是为了在集成合成器中获得最佳的相位噪声。合成器中的杂散信号可以在任何操作模式下出现，并且可以来自多个来源。一般来说，杂散可能是通过环路滤波器并直接调制VCO输入调谐端口的干扰的结果。它也可能是由于通过电源、接地或输出端口间接调制VCO的干扰造成的，或者由于滤波器的隔离不良而绕过环路滤波器。它还可以简单地添加到合成器的输出中。
干扰总是存在于PFD频率和输入参考频率的倍数处。根据合成器的操作模式，杂散也可能出现在参考频率的整数倍处。如果使用分数操作模式，VCO频率与参考的最近谐波之间的差也会产生所谓的整数边界杂散。
合成器必须包含数字电路来控制预分频器。电路主要在PFD频率下运行。在分数模式下有更多的电路处于活动状态，因此使用了更多的全开关CMOS，干扰的可能性更大。
HMC700LP4（E）经过设计和测试，在整数或分数操作模式下具有低杂散性能。参考杂散电平通常低于-100 dBc，带内分数边界杂散通常低于积分相位噪声，在许多情况下，频率规划可以提高杂散性能。
低于-100 dBc的参考杂散电平需要出色的电源板隔离、VCO与合成器数字开关的隔离、VCO负载与合成器的隔离以及晶体与VCO的隔离。典型的电路板布局、评估板和应用信息可用于低杂散操作。应用电路板中与Hittite推荐的隔离水平较低的操作可能会导致更高的杂散水平。