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意法半导体计划硅光子学基础PIC100平台的大规模生产

2026/3/10 10:30:54
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意法半导体现正进入其先进的硅光子学基础PIC100平台的大规模生产,该平台被数据中心和人工智能集群的超大规模光学互联应用。800G和1.6T PIC100收发器在AI工作负载激增时实现了更高的带宽、更低的延迟和更高的能效。

意法半导体计划硅光子学基础PIC100平台的大规模生产

“继2025年2月宣布其新硅光子技术后,ST现已进入超大规模企业的大批量生产。我们的技术平台与300毫米制造线的优越规模相结合,使我们在支持人工智能基础设施超级周期方面拥有独特的竞争优势,“意法微电子质量、制造与技术总裁Fabio Gualandris说。“展望未来,我们正在规划并执行产能扩展计划,力求到2027年产量实现四倍以上。这一快速扩张完全依赖于客户长期的容量预订承诺。”

即将推出的PIC100 TSV平台技术

人工智能基础设施正经历前所未有的扩展,云光互连性能成为关键瓶颈。借鉴多年硅光子学创新,ST的PIC100平台提供最先进的光学性能,包括同级最佳的硅和氮化硅波导损耗(分别低至0.4和0.5 dB/cm)、先进的调制器和光电二极管性能,以及创新的边缘耦合技术。

在大量生产PIC100的同时,意法计划推出其硅光子技术路线图的下一步:PIC100 TSV,这是一款全新且独特的平台,集成了透硅技术(TSV),进一步提升光学连接密度、模块集成和系统级热效率。PIC100 TSV平台旨在支持未来几代近封装光学(NPO)和协封光学(CPO),与超大规模企业长期迁移的路径相契合,推动更深层次的光学-电子集成以实现大规模化。

免责声明:本文为转载文章,转载此文目的在于传递更多电子元器件行业信息,版权归原作者所有。本文所用视频、图片、文字如涉及作品版权问题,请联系小编进行删除。

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